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联想武汉研发基地项目
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2019年武汉市优秀工程勘察设计行业
建筑工程二等奖
总体布局
项目位于武汉市东湖高新区关山大道与南湖大道交叉口、光谷新兴产业片区。
设计理念
立足联想基地总部定位,整合光谷科技片区,完善城市功能空间,打造具有地标感高科技企业形象。
利用研发地块配套形成转角商街,整合城市现有商业空间,形成片区商业次中心。
以生态至上为设计出发点,充分利用地形结合建筑规划设计,保留现状树木,凸显环境特色,实现建筑、环境与人的高度和谐。
超高层采用“双子”概念,紧邻关山大道一侧的退线布置,同样高度,外观品质保持和谐一致。
设计特点
办公楼标准层均采用最经济的方形标准层平面、最大限度提高使用效率,体现联想集团严谨踏实的企业文化。
商业以高层裙房布置在商街两侧,形成局部有退后关系的底层加单层、双层外廊加连桥的立体复合商业空间。商街为三层体量,全部商业配套以餐饮服务和办公服务为主。
立面造型结合环境特点,突出简洁大气的设计风格,以简洁平和的手法来诠释高档写字楼的特色。
玻璃幕墙透露出联想人的灵动、纯净的思维;横向大玻璃线条和竖向金属细线条的对比,给人视觉冲击。
入口门厅简洁大方,雨蓬与竖向线条融为一体,增加了流动性。
创新特点
空中花园及屋顶设备
主要绿色建筑技术
空调水系统采用闭式两管制变流量系统,分为塔楼一、塔楼二两个空调水环路,竖向一个环路,同程布置。
全热回收系统
可再循环材料
项目名称:联想武汉研发基地项目
项目地址:湖北武汉
设计/竣工:2014/2018
建筑面积:172,840㎡
设计团队:李黎、刘畅、许蕾、陈亮、宁喆、尹卫军、刘强、李伟、曹峰、徐军红、陈贝、倪可乐、陈才、杨峰